2024.11.01 (금)
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[더테크=조재호 기자] SK하이닉스가 가우스랩스와 미국 캘리포니아주 새너제이(San Jose)에서 열리고 있는 국제학회 ‘SPIE AL 2024’에 참가해 AI 기반 반도체 계측 기술 개발 성과를 발표했다고 29일 밝혔다. SPIE AL(SPIE Advanced Lithography + Patterning)은 국제광전자공학회가 주최하는 광학, 광자학 분야 국제 학회로 반도체회로를 그리기 위한 노광기술 전반에 대한 논의가 이뤄진다. 이러한 반도체 계측 기술은 반도체 제조 과정에서 반도체 소자의 물리·전기적 특성이 생산 공정별로 제대로 충족됐는지 확인해 생산성을 높이는 작업이다. SK하이닉스는 반도체 수율, 생산성을 높이기 위해 그동안 가우스랩스와 다양한 영역에서 협업을 진행해왔다. 또 이번 국제학회에서 양사의 개발 성과가 담긴 논문 2편을 발표하게 됐다. 이번 논문 발표를 통해 가우스랩스는 AI 기반 가상 계측 솔루션 ‘Panoptes VM(Virtual Metrology)’의 예측 정확도를 높이는 알고리즘 ‘통합 적응형 온라인 모델(Aggregated AOM)을 소개했다. 해당 AOM(Adaptive Online Model)은 공정 상태 변화에 따른 데이터
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